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Punchi Hewage, Nishantha Sampath

Promoting a Second-Tier Protection Regime for Innovation of Small and Medium-Sized Enterprises in South Asia

The Case of Sri Lanka. In englischer Sprache
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  • 8060269
  • 9783848718856
  • Nomos, Baden-Baden
  • 1. Auflage 2015
  • 17.04.2015
  • 331 Seiten
  • kartoniert
Der Begriff des Gebrauchsmusters ist in Sri Lanka und in anderen Teilen Südasiens eine noch... mehr

Produktinformationen "Promoting a Second-Tier Protection Regime for Innovation of Small and Medium-Sized Enterprises in South Asia"

Autor / Hrsg.: Punchi Hewage, Nishantha Sampath
Produkttyp: Monographie

Der Begriff des Gebrauchsmusters ist in Sri Lanka und in anderen Teilen Südasiens eine noch weitgehend unerforschte Option, um einen Anreiz für Innovationen von KMU zu schaffen.

Der Autor untersucht, ob diese Länder von einer Second-Tier-Patent (STP) Regelung, die auf die spezifischen Merkmale der Innovationslandschaft des Landes zugeschnitten ist, profitieren könnten.

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