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Punchi Hewage, Nishantha Sampath
Promoting a Second-Tier Protection Regime for Innovation of Small and Medium-Sized Enterprises in South Asia
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Art.-Nr.: 8060269/198

  • Produktgruppe: Monographie
  • Verlag: Nomos, Baden-Baden
  • Auflage: 1. Auflage 2015
  • Erscheinungsdatum: 17.04.2015

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Details

ISBN9783848718856
Umfang331 Seiten
Einbandartkartoniert

Der Begriff des Gebrauchsmusters ist in Sri Lanka und in anderen Teilen Südasiens eine noch weitgehend unerforschte Option, um einen Anreiz für Innovationen von KMU zu schaffen.

Der Autor untersucht, ob diese Länder von einer Second-Tier-Patent (STP) Regelung, die auf die spezifischen Merkmale der Innovationslandschaft des Landes zugeschnitten ist, profitieren könnten.

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